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晶體定向儀:
0415-2155900
傳真電話:
0415-2155887
無損探傷儀:
0415-2150150
傳真電話:
0415-2151390
 
JF-2型勞厄晶體分析儀

  JF-2型勞厄晶體分析儀能夠提供穩定的X射線光源,特點是利用可控硅和集成電路自動控制系統進行調流調壓,從而獲得一個強而穩定的射線光源.該機射線發生器功率大,整機穩定性高,操作簡單,可靠性強,防護完善,可與各種射線照相機一起構成X射線晶體分析儀,或用于其他用途的X射線光源.,廣泛用于冶金,機械,電子,化工,地質,,能源,等科研、企業、大專院校.
  該X射線晶體分析儀,主要用于研究物質內部微觀結構。如:單晶定向、檢驗缺陷、物質定性、測定點陣參數、測定殘余應力等。

  主要參數:

電 源

AC220V 50HZ 30A

功 率

2 KW

靶 材

Cu(可選其他靶材)

管電壓

50 KV(分檔可調)

管電流

50 mA(分檔可調)

穩定度

±1%

保 護

過功率、過電壓、過電流、無水

冷 卻

循環水、制冷水箱

防 護

鉛有機玻璃與金屬結構防護罩

相 機

A:德拜相機(粉沫相機)大、小兩種;) B:勞厄相機(平板相機)
(相機裝底片 ;暗室洗底片)上述兩種相機,用戶可自行選配置

 

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